vi设计公司知道，光刻机其实可以理解成一种非常精密的投影仪。投影仪的灯泡，就是光刻机的光源；被投射出去带图案的幻灯片，就是芯片制造时需要用的掩模板；而投影的幕布，就是我们需要加工的硅片。硅片上涂了光刻胶，被光照射到的地方光刻胶就被溶解掉。于是M e – H c加工出各种各样的芯片结构。
如果把投影出去的光想象成一把刻刀的话，那么，光的波长越短，这把刻刀就越锋利，能够加工出来的芯片结构就越精细。光线投影能够实现的最精细的图像分辨率，跟它所使用的光的波长差不多。比如现在最先进的极Q W s u紫外光刻机（EUV），使用的是一种波长只有13.5纳米的极紫外光，它能够实现的分辨率也就是13纳米左右。当然，你可能听说过，通过浸润式光刻、多重曝光等技术，能够稍微突破L z 5 ) ! N u一下这个分辨率限制，但基本也不会比光的波长精细太多。
实际上，每一次光刻机的重大迭代，都跟光源突破有关。上一代的深紫外光刻机（DUV），使用的是波长为193纳米的深紫外光，科学家足足用了20年时间才突破了波长更短的极紫外光。而下一代光刻机，科学家必须找到比极紫外光更短波长的光源，这非常困难。不过，有一个现成的东西可以作为光的E Q % 2 T V替代品——那就是电子。
高中物理课上vi设计公司都学过一个概念，叫“波粒二象性”，也就是，实物粒子w / _ h * j 3 J 5其实也有对应的波长。如果把电子当作波来看待的话，它对应的波长约为零点零几纳米。如果把电子当作光来投影做C : f L p ) ( $成光刻机的话，那分辨率可就高多了呀！其实，科学家早就想到了这个思路，他们早在1990年代就制作出了第一代电子束光刻设备，可以实现差不多20纳米的分辨率。
